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知名度の高い人気企業が応募の殺到を防いだり、極秘プロジェクトや新規事業を競合に知られたくない場合に WEB上では公開せず募集するケースがあります。ご登録いただくことで、非公開求人をご紹介できます。
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GP01_知的財産 - 知財技術
社名非公開
職種カテゴリ | ||
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業種カテゴリ | ||
業務内容 |
当事業部は「多様性と柔軟性を発揮し、攻撃力と事業駆動力を兼ね備え、事業貢献に対して結果を出し続ける組織」をビジョンに掲げ、以下ミッションとし業務を遂行しております。 1.富士フイルムグループ全体の事業戦略、R&D戦略に即して、知財財産権(特許、実用新案、意匠等)に関する取得、活用、保護等の戦略を立案し提案する 2.富士フイルムホールディングス、及び委託を受けたグループ各社の知的財産権の取得、活用、保護に関する業務を統括し、各社の商品・サービス・技術の差別性を強化・維持すると共に、リスク対応体制を確立して対応する …続きを読む |
当事業部は「多様性と柔軟性を発揮し、攻撃力と事業駆動力を兼ね備え、事業貢献に対して結果を出し続ける組織」をビジョンに掲げ、以下ミッションとし業務を遂行しております。 1.富士フイルムグループ全体の事業戦略、R&D戦略に即して、知財財産権(特許、実用新案、意匠等)に関する取得、活用、保護等の戦略を立案し提案する 2.富士フイルムホールディングス、及び委託を受けたグループ各社の知的財産権の取得、活用、保護に関する業務を統括し、各社の商品・サービス・技術の差別性を強化・維持すると共に、リスク対応体制を確立して対応する …続きを読む |
対象となる方 |
・大卒以上 ・英語での読み書きに抵抗がない方(英語の外国特許公報や関連書類の読解力をお持ちの方) …続きを読む |
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勤務地 | 神奈川県 埼玉県 静岡県 | |
想定年収 | 500~1300万円 |
GE02_半導体材料 - 処方開発・評価技術開発
社名非公開
職種カテゴリ | ||
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業種カテゴリ | ||
業務内容 |
半導体用フォトレジスト、絶縁膜/保護膜材料、半導体用薬液の材料開発や撮像素子用カラーフィルター 関連材料の開発を行います。半導体材料事業は、長年培ってきた銀塩写真感光材料技術に立脚した パターニング技術を、半導体デバイスに応用することから開始し、現在では、パターニングから半導体材料/電子材料全般への研究拡大を図っています。 …続きを読む |
半導体用フォトレジスト、絶縁膜/保護膜材料、半導体用薬液の材料開発や撮像素子用カラーフィルター関連材料の開発を行います。半導体材料事業は、長年培ってきた銀塩写真感光材料技術に立脚したパターニング技術を、半導体デバイスに応用することから開始し、現在では、パターニングから半導体材料/電子材料全般への研究拡大を図っています。 ■担当職務 …続きを読む |
対象となる方 |
半導体材料処方開発者 or 半導体材料評価技術者 のいずれか (1)半導体材料処方開発者 …続きを読む |
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勤務地 | 静岡県 | |
想定年収 | 450~900万円 |
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